首页> 中国专利> 静磁场均匀度的调整方法、磁共振成像用静磁场产生装置、磁场调整系统、程序

静磁场均匀度的调整方法、磁共振成像用静磁场产生装置、磁场调整系统、程序

摘要

为了避免磁场调整所需要的期间和费用的重复,且实现最终设置场所处的磁场调整期间的最小化,以及谋求磁铁的磁场调整的高效率化,提供对于在测量空间由静磁场产生单元产生的静磁场配置产生校正磁场的磁场校正单元来调整所述静磁场的均匀度的方法,包含:测定由所述静磁场产生单元产生的静磁场的步骤;将测定出的静磁场的空间分布进行级数展开的步骤;对级数展开了的不规则磁场分量当中的高阶项的不规则磁场分量进行校正的第1磁场调整步骤;和在所述第1调整步骤后进行的调整所述低阶的不规则磁场分量的第2步骤。

著录项

  • 公开/公告号CN103442635B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-01-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社日立医疗器械;

    申请/专利号CN201280014679.9

  • 发明设计人 榊原健二;

    申请日2012-03-15

  • 分类号A61B5/055(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人齐秀凤

  • 地址 日本东京都千代田区外神田四丁目14番1号

  • 入库时间 2022-08-23 09:34:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-04-12

    专利权的转移 IPC(主分类):A61B5/055 登记生效日:20170321 变更前: 变更后: 申请日:20120315

    专利申请权、专利权的转移

  • 2016-01-20

    授权

    授权

  • 2014-01-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):A61B5/055 申请日:20120315

    实质审查的生效

  • 2013-12-11

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号