薄膜形成方法、薄膜形成装置、形成有覆膜的被处理物、模具以及工具

摘要

本发明提供一种在被处理物的所期望部位形成薄膜的薄膜形成方法。在本发明的薄膜形成方法中，在减压容器内，向含有目标薄膜成分的原料气体供电，使所述原料气体等离子化，将其提供到被处理物上从而在被处理物上形成薄膜。为了在所期望的部位形成薄膜，利用了磁场产生机构所产生的磁场的作用。在磁场的作用下，使所述等离子体形成的等离子流向着所述被处理物表面的所期望部位汇聚，从而能够在所期望的部位形成薄膜。