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提高中子嬗变掺杂或去应力硅单晶退火后少子寿命的方法

摘要

本发明提供一种提高中子嬗变掺杂或去应力硅单晶退火后少子寿命的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)腐蚀、冲洗、烘干:将硅单晶用硝酸和氢氟酸进行腐蚀后,用去离子水冲洗后烘干;(2)浸泡:将硅单晶放入五氧化二磷溶液中浸泡;(3)晾干:自然晾干;(4)入炉:将步骤(3)得到的单晶硅放在石英舟中,入热处理炉;(5)通气:向炉内通入氧气;(6)退火。本发明的有益效果是减少了退火过程中金属离子对单晶的沾污,提高了单晶少子寿命。

著录项

  • 公开/公告号CN103165421B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-11-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201310058265.2

  • 发明设计人 王刚;王彦君;张雪囡;

    申请日2013-02-25

  • 分类号H01L21/261(20060101);

  • 代理机构12211 天津滨海科纬知识产权代理有限公司;

  • 代理人李莉华

  • 地址 300384 天津市滨海新区高新区华苑产业园区(环外)海泰东路12号

  • 入库时间 2022-08-23 09:31:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-27

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L21/261 登记生效日:20191209 变更前: 变更后:

    专利申请权、专利权的转移

  • 2019-01-22

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L21/261 登记生效日:20190103 变更前: 变更后: 申请日:20130225

    专利申请权、专利权的转移

  • 2015-11-04

    授权

    授权

  • 2013-07-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/261 申请日:20130225

    实质审查的生效

  • 2013-06-19

    公开

    公开

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