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沟槽栅型绝缘栅双极晶体管及其制作方法

摘要

本发明实施例公开了一种沟槽栅型绝缘栅双极晶体管及其制作方法。所述沟槽栅型绝缘栅双极晶体管包括:漂移区;位于漂移区正面内的有效基区;位于漂移区正面内、有效基区两侧的沟槽栅;其中,所述沟槽栅包括:与有效基区相邻的有效沟槽栅和远离有效基区的无效沟槽栅。本发明所提供的沟槽栅型绝缘栅双极晶体管,通过增加其内沟槽栅的个数,进而增加了沟槽栅的总宽度,减小了有效基区宽度与单个元胞宽度之比,从而使得漂移区内的空穴浓度提高,最终导致电导调制效应增强,因此,可降低器件的导通电阻。再有,该沟槽栅型绝缘栅双极晶体管,还能减小电流密度,提高器件的短路安全工作区。

著录项

  • 公开/公告号CN102842604B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-10-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院微电子研究所;

    申请/专利号CN201110168499.3

  • 申请日2011-06-21

  • 分类号

  • 代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人逯长明

  • 地址 北京市朝阳区北土城西路3号

  • 入库时间 2022-08-23 09:30:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-10-21

    授权

    授权

  • 2013-02-13

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/423 申请日:20110621

    实质审查的生效

  • 2012-12-26

    公开

    公开

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