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生长在金属Ag衬底上的AlN薄膜及其制备方法、应用

摘要

本发明公开了一种生长在金属Ag衬底上的AlN薄膜,其采用金属Ag为衬底,选择Ag衬底的(111)晶面偏向(100)方向0.5-1°的晶体取向,在金属单晶Ag(111)衬底上采用脉冲激光沉积生长法生长出外延AlN薄膜。本发明的生长在金属Ag衬底上的AlN薄膜可应用于LED器件、光电探测器、太阳能电池器件、激光器、薄膜体声波谐振器中。本发明采用了Ag作为衬底,且选择合适的晶体取向,无论是在缺陷密度、表面粗糙度、还是在结晶质量方面均具有优异性能,优于目前已经报道的应用传统衬底获得的AlN薄膜的相关结果。

著录项

  • 公开/公告号CN102945898B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-09-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广州市众拓光电科技有限公司;

    申请/专利号CN201210485131.4

  • 发明设计人 李国强;

    申请日2012-11-23

  • 分类号H01L33/00(20100101);H01L33/02(20100101);H01L33/32(20100101);

  • 代理机构44288 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人汤喜友

  • 地址 510000 广东省广州市广州高新技术产业开发区科学城南翔一路62号厂房

  • 入库时间 2022-08-23 09:30:09

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-04-07

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L33/00 登记生效日:20200319 变更前: 变更后: 申请日:20121123

    专利申请权、专利权的转移

  • 2015-09-30

    授权

    授权

  • 2013-04-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L33/00 申请日:20121123

    实质审查的生效

  • 2013-02-27

    公开

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