公开/公告号CN102656290B
专利类型发明专利
公开/公告日2014-11-26
原文格式PDF
申请/专利权人 吉坤日矿日石金属株式会社;
申请/专利号CN201080056252.6
申请日2010-10-13
分类号
代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司;
代理人王海川
地址 日本东京
入库时间 2022-08-23 09:21:48
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-04-26
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 14/34 变更前: 变更后: 申请日:20101013
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2014-11-26
授权
授权
2012-10-31
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/34 申请日:20101013
实质审查的生效
2012-09-05
公开
公开
机译: 溅射包含分散在CO或CO合金相中的氧化物相,包含CO或CO合金相和氧化物相的磁性材料膜以及使用磁性材料薄膜制造的磁性记录介质的溅射靶
机译: 包括分散在Co或Co合金相中的氧化物相,由Co或Co合金相和氧化物相制成的磁性薄膜以及使用该薄膜的磁记录介质的溅射靶
机译: 溅射包括分散在CO或CO合金相中的氧化物相,由CO或CO合金相和氧化物相制成的磁性薄膜,以及使用所述薄膜的磁性记录介质的靶