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一种<111>织构纳米孪晶Cu块体材料及制备方法

摘要

本发明涉及纳米结构金属材料领域,具体地说是一种<111>织构纳米孪晶Cu块体材料及制备方法,其微观结构由柱状晶粒组成,晶粒尺寸在1-50微米范围内,各晶粒内部均匀分布着高密度的纳米孪晶片层结构,孪晶片层的厚度从30纳米到几百纳米不等。结构特点:<111>织构,柱状晶粒,小角晶界;垂直于生长方向的纳米尺寸孪晶片层,∑3共格孪晶界面;晶粒尺寸、孪晶片层可控生长,块体,其强度可达到粗晶铜的10倍。本发明利用传统的直流电解沉积技术,只需对工艺条件稍作改变,控制适当的镀液组成和沉积参数即可。本发明可解决现有技术中铜材料存在的性能问题,获得的铜材料性能优良,具有高强度的同时,具有高热稳定性、高导电性和塑性。

著录项

  • 公开/公告号CN102400188B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-10-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院金属研究所;

    申请/专利号CN201010278047.6

  • 发明设计人 金帅;尤泽升;卢磊;

    申请日2010-09-10

  • 分类号

  • 代理机构沈阳科苑专利商标代理有限公司;

  • 代理人张志伟

  • 地址 110016 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号

  • 入库时间 2022-08-23 09:21:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-10-22

    授权

    授权

  • 2012-06-13

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25D 3/38 申请日:20100910

    实质审查的生效

  • 2012-04-04

    公开

    公开

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