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确定纹理映射参数以定义代表像素投影足迹的方法和装置

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本发明公开了一种用于在图像处理器中计算纹理映射参数以定义代表像素在纹理映射上的投影的足迹的方法。该方法包括基于一对特定的偏导矢量(u

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公开/公告号CN101751687B

专利类型发明专利
公开/公告日2014-03-05

原文格式PDF
申请/专利权人超威半导体(上海)有限公司;
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申请/专利号CN200810207277.6
发明设计人陈秦玉;周骥;
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申请日2008-12-18
分类号
代理机构上海胜康律师事务所;
代理人周文强
地址 201203 上海市张江高科技园区张东路1387号科技领袖之都(东区)第48幢
入库时间 2022-08-23 09:17:34

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2014-03-05

授权

授权
2010-08-18

实质审查的生效 IPC(主分类):G06T 15/00 申请日:20081218

实质审查的生效
2010-06-23

公开

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