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用于光刻机测试的光刻版及光刻机的测试方法

摘要

本发明涉及一种用于光刻机测试的套刻测试图形,包括内侧图形区域和外侧图形区域,内侧图形区域包括两条内侧条状图形,外侧图形区域包括两条外侧条状图形,两条内侧条状图形各与两条外侧条状图形中的一条平行;内侧图形区域和外侧图形区域中至少有一条状图形包括多条相互平行的分割条,多条相互平行的分割条两两之间形成多个间距,间距逐渐递增或递减,最宽的间距大于待测光刻机的最小分辨率,分割条的宽度大于待测光刻机的最小分辨率。本发明还涉及一种光刻机的测试方法。本发明通过测试套刻测量值来间接得到光刻机的WIS分辨率和最佳焦距。因为套刻测试仪价格便宜,不是生产中的关键瓶颈设备,因此提高了生产效率,降低了生产成本。

著录项

  • 公开/公告号CN102540737B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-12-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201010586235.5

  • 发明设计人 黄玮;

    申请日2010-12-14

  • 分类号G03F7/20(20060101);G03F7/22(20060101);

  • 代理机构44224 广州华进联合专利商标代理有限公司;

  • 代理人何平

  • 地址 214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区汉江路5号

  • 入库时间 2022-08-23 09:17:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-07-13

    专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/20 登记生效日:20180622 变更前: 变更后: 申请日:20101214

    专利申请权、专利权的转移

  • 2017-11-03

    专利权的转移 IPC(主分类):G03F7/20 登记生效日:20171013 变更前: 变更后: 变更前:

    专利申请权、专利权的转移

  • 2017-11-03

    专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/20 登记生效日:20171013 变更前: 变更后: 变更前:

    专利申请权、专利权的转移

  • 2013-12-11

    授权

    授权

  • 2013-12-11

    授权

    授权

  • 2013-12-11

    授权

    授权

  • 2012-09-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20101214

    实质审查的生效

  • 2012-09-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20101214

    实质审查的生效

  • 2012-09-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20101214

    实质审查的生效

  • 2012-07-04

    公开

    公开

  • 2012-07-04

    公开

    公开

  • 2012-07-04

    公开

    公开

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