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研磨液、研磨液的制备方法和使用该研磨液的研磨方法

摘要

本发明提供了一种用于高质量研磨碳化硅晶片的研磨液、研磨液的制备方法以及使用该研磨液的研磨方法。该研磨液由去离子水、金刚石粉、甘油、防锈剂和添加剂配制而成。利用此方法配制的研磨液味道清新,分散均匀,状态稳定,基本无沉淀,可循环使用,加工晶片去除速率快,加工出的碳化硅晶片较光亮,且无明显划痕,可高效防止上下研磨盘生锈。该研磨液的使用循环次数,可以通过改变加入添加剂的量或者不同添加剂的比例来调节。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-01-21

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L21/461 登记生效日:20200103 变更前: 变更后: 变更前:

    专利申请权、专利权的转移

  • 2016-02-10

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L21/461 变更前: 变更后: 申请日:20091105

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2016-02-10

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 21/461 变更前: 变更后: 申请日:20091105

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2013-10-23

    授权

    授权

  • 2013-10-23

    授权

    授权

  • 2011-04-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09G1/02 申请日:20091105

    实质审查的生效

  • 2011-04-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09G 1/02 申请日:20091105

    实质审查的生效

  • 2011-02-23

    公开

    公开

  • 2011-02-23

    公开

    公开

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