法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-09-09
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01M 9/06 授权公告日:20130918 终止日期:20140718 申请日:20110718
专利权的终止
2013-09-18
授权
授权
2012-04-18
实质审查的生效 IPC(主分类):G01M 9/06 申请日:20110718
实质审查的生效
2012-02-22
公开
公开
机译: 一种用于清洁在OLED装置中使用的真空系统的方法,一种在用于制造OLED装置的基板上真空沉积的方法以及一种在用于制造OLED装置的基板上真空沉积的装置
机译: 一种清洁用于制造OLED器件的真空系统的方法,一种用于制造OLED器件的基板上的真空沉积方法,以及用于在用于制造OLED器件的基板上真空沉积的装置
机译: 一种清洁用于制造OLED器件的真空系统的方法,一种用于制造OLED器件的基板上的真空沉积方法,以及用于在用于制造OLED器件的基板上真空沉积的装置