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用于形成间隔体的放射线敏感性树脂组合物、间隔体及其形成方法

摘要

本发明提供一种含有(A)至少含有1种来自(a1)分子内含有至少2个聚合性不饱和基的化合物的聚合单元的共聚物、(B)聚合性不饱和化合物和(C)放射线敏感性聚合引发剂的用于形成间隔体的放射线敏感性树脂组合物。提供高灵敏度、高分辨率且可以形成图案形状、压缩特性、摩擦耐性、耐热性等各种性能优异的图案状薄膜、抑制了烧结时的升华物的产生、抑制了LCD显示中的图像残留、对于负载负荷不易产生塑性变形、对于取向膜剥离液等化学试剂具有充分的耐性的用于形成间隔体的放射线敏感性树脂组合物。

著录项

  • 公开/公告号CN101174089B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-07-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JSR株式会社;

    申请/专利号CN200710180825.6

  • 发明设计人 浜口仁;久间俊平;杉龙司;

    申请日2007-10-17

  • 分类号G03F7/028(20060101);G03F7/00(20060101);G02F1/1339(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人熊玉兰;李平英

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:15:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-07-03

    授权

    授权

  • 2009-06-24

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-05-07

    公开

    公开

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