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使用过程数据和产量数据的过程控制

摘要

一种用于监控制造过程的方法,该制造过程以在制造过程的最后的过程步骤结束时获取半导体晶片的计量数据为特征(‘步骤a’)。获取用于制造半导体晶片的第一个过程步骤的多个过程变量的数据(‘步骤b’)。基于计量数据和第一个过程步骤的多个过程变量的所获取的数据来创建第一个过程步骤的第一个数学模型(‘步骤c’)。对用于制造半导体晶片的至少第二个过程步骤重复步骤b和步骤c(‘步骤d’)。基于计量数据和n个过程步骤中的每的多个过程变量的数据来创建第n个数学模型(‘步骤e’)。基于计量数据和由步骤c、d和e创建的模型来创建顶层数学模型(‘步骤f)。步骤f的顶层数学模型基于对计量数据有实质影响的那些过程变量。

著录项

  • 公开/公告号CN102016737B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-05-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MKS仪器有限公司;

    申请/专利号CN200980116103.1

  • 申请日2009-02-20

  • 分类号

  • 代理机构北京安信方达知识产权代理有限公司;

  • 代理人李冬梅

  • 地址 美国马萨诸塞州

  • 入库时间 2022-08-23 09:14:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-04-06

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G05B 23/02 授权公告日:20130508 终止日期:20150220 申请日:20090220

    专利权的终止

  • 2013-05-08

    授权

    授权

  • 2011-06-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):G05B 23/02 申请日:20090220

    实质审查的生效

  • 2011-04-13

    公开

    公开

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