法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-03-02
专利权的转移 IPC(主分类):H01L 21/335 登记生效日:20160215 变更前: 变更后: 申请日:20090618
专利申请权、专利权的转移
2013-05-01
授权
授权
2011-08-10
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/335 申请日:20090618
实质审查的生效
2011-06-29
公开
公开
机译: 使用纳米线掩模的光刻工艺,以及使用该工艺制造的纳米级器件
机译: 使用纳米线掩模的光刻工艺,以及使用该工艺制造的纳米级器件
机译: 使用多层光刻工艺制造半导体器件的方法