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基于等离子体的处理的处理条件决定方法及处理条件决定装置

摘要

基于等离子体的处理的处理条件决定方法包含如下的工序:照射工序,使头在相对于对象物保持预定的目标距离的状态下以预定的目标速度移动,并且从头向对象物的表面照射等离子体;测定工序,测定执行了照射工序之后的对象物的表面状态;计算工序,反复执行照射工序和测定工序,根据直到对象物的表面状态饱和为止所需的照射工序的执行次数,计算通过执行一次照射工序而使对象物的表面状态饱和所需的必要速度;及决定工序,将必要速度决定为头的处理速度。

著录项

  • 公开/公告号CN115804249A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2023-03-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社富士;

    申请/专利号CN202080102821.X

  • 发明设计人 伊藤俊辅;神藤高广;

    申请日2020-08-18

  • 分类号H05H1/32;

  • 代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人杨青;安翔

  • 地址 日本爱知县知立市

  • 入库时间 2023-06-19 18:47:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-03-14

    公开

    国际专利申请公布

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