退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
公开/公告号CN115420966A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-12-02
原文格式PDF
申请/专利权人 西北核技术研究所;
申请/专利号CN202210741492.4
发明设计人 王祖军;薛院院;陈伟;聂栩;黄港;赖善坤;马武英;盛江坤;刘敏波;何宝平;缑石龙;
申请日2022-06-27
分类号G01R31/00;G01M11/00;H04N17/00;
代理机构西安智邦专利商标代理有限公司;
代理人倪金荣
地址 710024 陕西省西安市灞桥区平峪路28号
入库时间 2023-06-19 17:48:27
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-12-02
公开
发明专利申请公布
机译: 用无等离子体损伤的光电二极管制造CMOS图像传感器的方法
机译: 等离子体损伤中制造CMOS图像传感器保护光电二极管的方法
机译: CMOS图像传感器的无损伤杂质掺杂方法
机译:CMOS图像传感器中总电离剂量与位移损伤剂量引起的暗电流随机电报信号
机译:核反应堆中子辐照对CMOS APS图像传感器的位移损伤效应
机译:中子和质子辐射对深亚微米技术制造的CMOS图像传感器产生的位移损伤效应
机译:位移损伤剂量对辐照CMOS图像传感器暗电流分布的影响
机译:离子辐照后砷化镓太阳能电池中位移损伤引起的电和结构效应
机译:一种CmOs霍尔效应传感器的表征和磁性纳米颗粒的检测方法生物医学应用
机译:在深亚微米工艺中制造的质子辐照CMOS传感器中的电离与位移损伤效应
机译:太阳能电池中的位移损伤效应:微电子和光子学测试床空间实验中的采矿损害