基于摩擦磨损机理的单晶SiC化学机械抛光液

摘要

本发明涉及基于摩擦磨损机理的单晶SiC化学机械抛光液技术领域，尤其涉及一种包含第二相二氧化硅研磨颗粒的制备方法，包括如下步骤：步骤S1：用PH为12的碱溶液处理质量浓度为m1粒径d1为碳化硅颗粒，并充分搅拌后离心；步骤S2：使用质量浓度为m2聚(氧乙烯)壬基苯基醚对离心后的碳化硅颗粒进行改性，室温下充分搅拌使其混合均匀；步骤S3：使用质量浓度m3的聚碳硅烷处理，按照一定的升温速率，并在恒定温度T1搅拌速度r1连续搅拌t1小时；步骤S4：将上述处理后的二氧化硅研磨颗粒分散在纯水中，加入质量浓度为m4的有机溶剂并调节PH值；本发明的基于摩擦磨损机理的单晶SiC化学机械抛光液，使得制成的抛光液的摩擦磨损性能得到提高。