微细加工处理剂、和微细加工处理方法

摘要

本发明提供对至少具有含硅绝缘膜的被处理物，在抑制微粒的残留的同时能够进行良好的微细加工的微细加工处理剂和微细加工处理方法。本发明的微细加工处理剂是用于对至少具有含硅绝缘膜的被处理物进行微细加工的微细加工处理剂，其特征在于，包含以下的化学式(1)所示的化合物、氟化氢、氟化铵和水，M++(Rf‑SO2)‑N‑‑(SO2‑Rf) (1)(化学式(1)中，Rf表示碳原子数为1～4的全氟烷基，M+表示氢离子或铵离子)上述化合物的含量相对于上述微细加工处理剂的总质量为0.001质量％以上且0.5质量％以下，上述氟化氢的含量相对于上述微细加工处理剂的总质量为0.05质量％以上且25质量％以下，上述氟化铵的含量相对于上述微细加工处理剂的总质量为0.5质量％以上且40质量％以下，上述氟化氢的含量与上述氟化铵的含量满足以下的关系式(1)。Y≤‑0.8X+40 (1)(其中，X表示氟化氢的浓度(质量％)，Y表示氟化铵的浓度(质量％))。