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重叠测量系统以及重叠测量装置

摘要

本发明能够根据SN比低的图案图像测量出工艺间的重叠误差。因此,根据二次电子检测器(107)的检测信号形成二次电子像(200),根据反射电子检测器(109)的检测信号形成反射电子像(210),制作将反射电子像中的亮度信息沿线图案的长度方向相加而得的SUMLINE轮廓(701),使用根据二次电子像检测出的上层图案的位置信息、和使用基于SUMLINE轮廓从反射电子像推定出的推定线图案(801)而检测出的下层图案的位置信息,计算出试样的重叠误差。

著录项

  • 公开/公告号CN114303039A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-04-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社日立高新技术;

    申请/专利号CN201980099625.9

  • 发明设计人 椙江政贵;酒井计;

    申请日2019-08-23

  • 分类号G01B15/00(20060101);G01N23/203(20060101);G01N23/2206(20060101);G01N23/2251(20060101);H01J37/22(20060101);H01L21/66(20060101);

  • 代理机构11243 北京银龙知识产权代理有限公司;

  • 代理人许静;范胜杰

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-06-19 14:48:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-08

    公开

    国际专利申请公布

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