一种小塔基硅片碱抛光辅助剂及其应用

摘要

本发明属于晶硅抛光技术领域。一种小塔基硅片碱抛光辅助剂，包括辅助剂A和辅助剂B；所述辅助剂A包括按质量百分比计算的以下组分：硅烷偶联剂0.1‑0.5%、乙醇2‑5%、明胶0.05‑0.2%、正丁醇1‑3%、十二烷基苯磺酸钠0.05‑0.2%、全氟烷基聚氧乙烯醚0.01‑0.05%，余量为去离子水；所述辅助剂B包括按质量百分比计算的以下组分：硅烷偶联剂0.5‑1%、烷基三甲基溴化铵0.1‑0.4%、全氟烷基聚氧乙烯醚0.01‑0.1%、乙醇2‑5%、过硫酸铵1‑3%，余量为去离子水。本发明碱抛光辅助剂可在碱抛光过程中有效保护非抛光面不被腐蚀，抛光面碱蚀量可控，抛光后的硅片金字塔塔基尺寸小，表面均匀、平整度高。