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公开/公告号CN114135620A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-03-04
原文格式PDF
申请/专利权人 安徽工程大学;
申请/专利号CN202111343496.9
发明设计人 杨广鑫;潘家保;艾和金;吴波文;叶东东;徐锐;高洪;叶锦;汪奥;武怀彪;
申请日2021-11-13
分类号F16F9/53(20060101);F16F9/32(20060101);
代理机构11403 北京风雅颂专利代理有限公司;
代理人方昊
地址 241000 安徽省芜湖市鸠江区北京中路
入库时间 2023-06-19 14:25:12
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-03-04
公开
发明专利申请公布
机译: 基于磁控原理的溅射阴极单元在环形涂层形成面上形成涂层
机译: 一种装置,其在利用效应的情况下形成产品是基于载流的,可磁控的电阻发生状态的物体
机译: 一种基于利用磁弧移动的提升点火原理的焊接方法以及焊接元件
机译:基于可磁控流体的轴承和阻尼器的开发
机译:基于INSB的横向旋转装置的旋转输送电测量和磁控控制
机译:基于磁控放电的离子源,用于改善惯性静电约束聚变装置
机译:磁控形状记忆合金致动装置的工作原理和特性
机译:开发一种新的控制策略并通过实时混合仿真考虑大型MR阻尼器装置动力学的新控制策略的实验验证。
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