公开/公告号CN114063227A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-02-18
原文格式PDF
申请/专利权人 美商祥茂光电科技股份有限公司;
申请/专利号CN202110768005.9
申请日2021-07-07
分类号G02B6/42(20060101);
代理机构11290 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司;
代理人李旭;姚鹏
地址 美国德克萨斯州舒格兰杰西比特尔大道13139
入库时间 2023-06-19 14:14:25
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-07-14
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 6/42 专利申请号:2021107680059 申请日:20210707
实质审查的生效
机译: 光掩模组件和包括该光掩模组件的光学设备
机译: 具有反射光掩模的光掩模组件和制造反射光掩模的方法
机译: 保护其免受在光掩模组件中形成的污染物的影响的方法以及光刻工艺