首页> 中国专利> 具有高温扩散屏蔽性能的NbTaMoWNx氮化物涂层及其制备方法

具有高温扩散屏蔽性能的NbTaMoWNx氮化物涂层及其制备方法

摘要

本发明公开了一种具有高温扩散屏蔽性能的NbTaMoWNx氮化物涂层及其制备方法。所述方法以NbTaMoW高熵合金为磁控溅射靶材,采用直流磁控溅射方法,在Ar和N2气氛下,制得具有高温扩散屏蔽性能的NbTaMoWNx氮化物涂层。本发明通过直流磁控溅射方法来制备NbTaMoWNx氮化物涂层,工艺简便迅速,重复性好,制得的NbTaMoWNx氮化物涂层为非晶相结构,厚度较小,具有较好的热稳定性、电学性能以及高温扩散屏蔽性能,可以应用在集成电路中作为Cu‑Si器件中的扩散屏蔽层。

著录项

  • 公开/公告号CN113957385A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南京理工大学;

    申请/专利号CN202111220986.X

  • 申请日2021-10-20

  • 分类号C23C14/06(20060101);C23C14/54(20060101);C23C14/58(20060101);C23C14/35(20060101);

  • 代理机构32203 南京理工大学专利中心;

  • 代理人刘海霞

  • 地址 210094 江苏省南京市孝陵卫200号

  • 入库时间 2023-06-19 13:58:51

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号