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制备二维纳米Cs3Cu2I5晶体材料的方法及其应用

摘要

本发明提供了制备二维纳米Cs3Cu2I5晶体材料的方法及其应用,以铯源与铜源为混合源,通过气相沉积制备二维纳米Cs3Cu2I5晶体材料。本发明采用CsI、CuI经配比为前驱体,节能环保且无毒害性;合成大尺寸二维超薄Cs3Cu2I5纳米结构,为集成电路的大规模应用提供了材料基础;容易转移到其他衬底上进行后续器件加工制作。本发明的方法可以满足大批量二维纳米Cs3Cu2I5晶体材料的制备需求,产物表面平整、形貌均一、元素分布均匀。该制备方法原料丰富、价格低廉、制备方法简单、便于推广以及大规模生产,是一种极具应用潜力的,适用微纳光电子器件新材料的制备技术。

著录项

  • 公开/公告号CN113957527A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 杭州电子科技大学;

    申请/专利号CN202111201029.2

  • 申请日2021-10-14

  • 分类号C30B29/12(20060101);C30B25/00(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 310018 浙江省杭州市钱塘区白杨街道2号大街1158号

  • 入库时间 2023-06-19 13:58:51

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