一种基于图像分割算法的半导体外观缺陷量化方法

摘要

本发明具体公开了一种基于图像分割算法的半导体外观缺陷量化方法，采用将UNet和DeepLabV3两种语义分割算法级联的方式进行缺陷检测和分割，在训练模型的过程中自适应学习参数对两个模型输出的mask进行融合，缺陷面积估计更准；并结合缺陷的多角度的量化，使检测的精度更高，因此可对半导体外观缺陷进行细致量化分析，防止物料的浪费。