法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-04-08
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C14/28 专利申请号:2021104936326 申请公布日:20211207
发明专利申请公布后的视为撤回
机译: 使用掩膜和无掩膜工艺步骤对新型抗蚀剂进行准分子激光图案化
机译: 自组织材料的图案化方法,自组织材料的图案化基质和制备方法以及使用自组织材料的图案化基质的光掩膜
机译: 制备半色调相移掩膜的方法半色调相移掩膜白的方法半色调相移掩膜的制备方法及用于光掩膜的薄膜的形成装置