垂直腔面发射激光器湿法氧化方法及垂直腔面发射激光器

摘要

本发明公开了一种垂直腔面发射激光器湿法氧化方法，用于在垂直腔面发射激光器制备过程中，对主动区平台进行氧化处理以在所述主动区平台内的氧化限制层中间形成氧化孔；所述湿法氧化方法分为两个阶段：第一阶段的氧化气氛为H2、N2与H2O蒸汽混合；第二阶段的氧化气氛为H2、N2、O2与H2O蒸汽混合，其中O2与H2O蒸汽的体积比为1%～10%。本发明还公开了一种垂直腔面发射激光器。相比现有技术，本发明可对湿法氧化速率进行更为精准的控制，有效减少氧化层及GaAs界面的分离或开裂现象，提高激光器的使用寿命及可靠性。