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一种非氧化物Y3Si2C2烧结助剂、高性能氮化硅陶瓷基板及其制备方法

摘要

本发明公开了一种非氧化物Y3Si2C2烧结助剂、高性能氮化硅陶瓷基板及其制备方法,涉及氮化硅陶瓷制备技术领域。本发明提供的非氧化物Y3Si2C2烧结助剂的制备方法,以碳化硅和金属钇为主原料,辅以氯化钠,氯化钾,通过熔盐法制备,在常规固相反应中引入低熔点盐作为助熔剂来合成非氧化物Y3Si2C2的一种新的合成方法;可以获得一种非氧化物Y3Si2C2烧结助剂。本发明提供的高性能氮化硅陶瓷基板的制备方法,以非氧化物Y3Si2C2和稀土氧化物作为烧结助剂,其加入有助于降低氧化物烧结助剂中氧杂质的引入,促进烧结致密;选用的烧结助剂可与氧杂质反应,净化晶格,有效提高热导率。

著录项

  • 公开/公告号CN113697810A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广东工业大学;

    申请/专利号CN202111000404.7

  • 发明设计人 伍尚华;黄瑶;黄民忠;

    申请日2021-08-27

  • 分类号C01B32/90(20170101);C04B35/593(20060101);C04B35/622(20060101);C04B35/626(20060101);

  • 代理机构44242 深圳市精英专利事务所;

  • 代理人李莹

  • 地址 510000 广东省广州市东风东路729号

  • 入库时间 2023-06-19 13:26:15

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