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干扰和基线漂移校正传感器系统

摘要

一种传感器系统,其去除来自干扰物的响应和/或校正传感器的基线漂移以确定气体环境中目标材料的存在、浓度或浓度改变。流入系统的流体可以由阀布置引导至第一流体流动路径或第二流体流动路径。目标材料可以被第一流体流动路径中的过滤材料吸收。沿着第二气体流动路径流动的流体直接流向传感器。传感器对来自第一和第二流体流动路径的流体的响应可以被用于确定目标材料的存在、浓度或浓度改变。

著录项

  • 公开/公告号CN113631921A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 住友化学株式会社;

    申请/专利号CN202080020965.0

  • 申请日2020-03-16

  • 分类号G01N33/00(20060101);

  • 代理机构11038 中国贸促会专利商标事务所有限公司;

  • 代理人程晨

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2023-06-19 13:10:40

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N33/00 专利申请号:2020800209650 申请日:20200316

    实质审查的生效

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