退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
公开/公告号CN113631921A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-11-09
原文格式PDF
申请/专利权人 住友化学株式会社;
申请/专利号CN202080020965.0
发明设计人 D·托布乔克;N·达尔特奈尔;P·凯彻林;R·阿切尔;
申请日2020-03-16
分类号G01N33/00(20060101);
代理机构11038 中国贸促会专利商标事务所有限公司;
代理人程晨
地址 日本东京
入库时间 2023-06-19 13:10:40
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-04-01
实质审查的生效 IPC(主分类):G01N33/00 专利申请号:2020800209650 申请日:20200316
实质审查的生效
机译: 干扰和基线漂移校正传感器系统
机译: 干扰和基线漂移校正气体传感器系统
机译:开发一种校正MicroPEM基线漂移的方法
机译:用于基线漂移校正的ECG信号的上包络检测:一项初步研究
机译:傅里叶变换红外基线漂移的分段两点自动线性相关校正方法
机译:瞬态电磁记录信号基线漂移的实时校正方法
机译:射频干扰取消,评估,检测和校正
机译:基于CEEMDAN和小波阈值的ECG信号降噪和基线漂移校正
机译:基于CEEmDaN和小波阈值的心电信号去噪和基线漂移校正
机译:使用稀疏壁压数据进行半模型测试的亚音速墙干扰校正(校正subsoniques des Effets de parois pour des Essais de Demi-maquettes a L'aide de Donnees Dispersees de pression sur les parois)