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公开/公告号CN113574086A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-10-29
原文格式PDF
申请/专利权人 三井化学株式会社;
申请/专利号CN202080020547.1
发明设计人 小田隆志;大喜田尚纪;和知浩子;山本慎吾;
申请日2020-03-31
分类号C08G59/22(20060101);C08G65/18(20060101);H01L21/027(20060101);B29C59/02(20060101);
代理机构11243 北京银龙知识产权代理有限公司;
代理人陈彦;郭玫
地址 日本东京都
入库时间 2023-06-19 13:02:24
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-11-07
授权
发明专利权授予
机译: 光固化组合物,凹凸结构的制造方法,形成细凹凸图案的方法,以及凹凸结构
机译: 用于制造具有凹凸图案的结构体的凹凸图案形成装置和方法
机译: 凹凸图案形成装置和具有凹凸图案的结构体的制造方法
机译:通过贴片分割切割方法使用双H工具路径的周期性凹凸表面图案形成
机译:半导体和传感器的制造纳米压印技术正在加速在基底上形成精细的凹凸图案低成本,非常适合高混合量小批量生产
机译:具有多功能化凹凸棒石(org-ATP)纳米棒作为独特交联剂的凹凸棒石/聚(丙烯酸)纳米复合物(ATP / PAA)水凝胶:制备优化和Pb(II)离子的选择性吸附
机译:建筑物饰面材料的凹凸图案的光和阴影:凹凸形状?尺寸?辐照角度依次的影响
机译:垄断者面临非线性价格偏好的消费者面临的问题的存在,唯一性,凹凸和几何形状
机译:新的合成路线与三唑-苯并二氮杂Analog类似物:扩大选择性溴的凹凸孔方法的范围和末端(BET)溴结构域抑制
机译:Triazolo-苯并二氮杂analogue类似物的新合成途径:扩大凹凸孔方法的范围,以选择性抑制溴和末端(BET)溴结构域
机译:使用惯性剖面测量验证凹凸检测方法;技术部门2003年9月 - 2005年8月