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一种用于高精度电子经纬仪的纳米级干涉条纹测角系统

摘要

本发明公开了一种用于高精度电子经纬仪的纳米级干涉条纹测角系统,包括纳米级光栅度盘、用于驱动纳米级光栅度盘旋转的驱动装置、纳米级光栅探测器,纳米级光栅探测器包括发光二极管、固定度盘、光敏二极管,发光二极管与光敏二极管相对应设置,固定度盘设置在发光二极管与光敏二极管之间,纳米级光栅度盘设置在固定度盘与光敏二极管之间;所述固定度盘、纳米级光栅度盘上均设置有密度相同的纳米条纹。本发明解决了电子经纬仪在复杂条件下架设、对中、整平和瞄准等过程中的精度误差源问题,提高了电子经纬仪的使用效果。

著录项

  • 公开/公告号CN113483728A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东华理工大学;

    申请/专利号CN202110753787.9

  • 发明设计人 王建强;朱前程;代阳;孙云龙;

    申请日2021-07-03

  • 分类号G01C1/02(20060101);G01B11/26(20060101);

  • 代理机构11350 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人汤牡丹

  • 地址 330013 江西省南昌市经开区广兰大道418号

  • 入库时间 2023-06-19 12:49:58

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