机译: 有机器件制造装置的气相沉积室的评估方法标准掩模装置和标准衬底的标准掩模装置制造方法有机器件制造装置具有通过评估方法评价的气相沉积室,通过评估方法,该有机装置具有通过评估评估的气相沉积室中形成的气相沉积层。 有机器件制造装置的方法和气相沉积室维持方法
机译: 一种低温化学气相沉积-低k膜气相沉积的方法,该方法使用选定的经历过的环硅氧烷和用于半导体的臭氧气体。
机译: 用于有机装置的制造装置沉积室的评价方法,标准掩模装置和评估方法的标准衬底,标准掩模装置的制造方法,以及通过沉积层评估的有机装置评价的气相沉积室的有机装置的制造装置 形成在评估方法中评估的沉积室,以及有机装置制造装置的沉积室的维护方法