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一种降低半导体量子点激光器线宽增强因子的方法

摘要

本发明公开了一种降低半导体量子点激光器线宽增强因子的方法,通过对量子点的尺寸、应力以及量子点材料和势垒材料禁带宽度的调控,增加量子点能态能级差,抑制非均匀性展宽的影响,提高量子点增益谱在跃迁能级附近的对称性,从而有效降低量子点激光器的线宽增强因子。本发明与当前的实验室和产业界所使用的设备和工艺完全匹配,具有成本低廉、可操作性强、和效果明显等特点,可有效提高量子点半导体激光器的性能。

著录项

  • 公开/公告号CN113381298A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京大学;

    申请/专利号CN202110526308.X

  • 申请日2021-05-14

  • 分类号H01S5/32(20060101);H01S5/343(20060101);

  • 代理机构11360 北京万象新悦知识产权代理有限公司;

  • 代理人李稚婷

  • 地址 100871 北京市海淀区颐和园路5号

  • 入库时间 2023-06-19 12:32:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-09-27

    授权

    发明专利权授予

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