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用于掩蔽待掩蔽的区域的装置以及制造掩蔽装置的方法

摘要

披露了一种用于掩蔽待掩蔽的区域的装置(10),包括:掩蔽膜(11),该掩蔽膜包括粘合底面,保护膜(12)可移除地附着在该粘合底面上,至少四个凸缘(13),这些凸缘以可移除的方式彼此叠覆并附着,这些凸缘中的一个所谓的“底部凸缘”附着到该掩蔽膜(11)的与该底面相反的顶面,每一个所述凸缘(13)被限定在内周边(131)与外周边之间,凸缘(13)的外周边彼此齐平,并且凸缘(13)的内周边至少部分彼此齐平。

著录项

  • 公开/公告号CN113302048A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 内希亚集团;

    申请/专利号CN201980087683.X

  • 发明设计人 菲利普·迪布瓦;

    申请日2019-10-23

  • 分类号B32B7/06(20060101);B32B7/12(20060101);B32B3/02(20060101);B32B27/08(20060101);B32B27/30(20060101);B32B38/00(20060101);B32B38/04(20060101);B32B3/08(20060101);B32B3/26(20060101);B05C21/00(20060101);B05D1/32(20060101);B05B12/24(20060101);

  • 代理机构11328 北京汉德知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人王占军

  • 地址 法国图卢兹

  • 入库时间 2023-06-19 12:19:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-09-15

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):B32B 7/06 专利申请号:201980087683X 申请公布日:20210824

    发明专利申请公布后的视为撤回

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