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一种以羟基磷灰石为载体的低共熔溶剂型分子印迹聚合物及其制备方法和应用

摘要

本发明公开了一种以羟基磷灰石为载体的低共熔溶剂型分子印迹聚合物及其制备方法和应用。以羟基磷灰石作为载体,两种不同低共熔溶剂分别作为功能单体和交联剂,并引入模板分子通过聚合反应、洗脱模板分子,即得分子印迹聚合物。该分子印迹聚合物以羟基磷灰石作为载体骨架,而印迹层均匀地分布在载体表面,不但解决了传统分子印迹聚合的印迹位点易被包埋的问题,同时有利于目标分子更容易到达印迹位点,因此吸附更快、吸附量更大,且该分子印迹聚合物易于根据目标分子来进行设计,可以广泛应用于复杂体系中目标分子的选择性识别和分离提取,且分子印迹聚合物的制备采用原料成本低、操作简单、对环境友好,易于大规模生产。

著录项

  • 公开/公告号CN113248650A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 许昌学院;

    申请/专利号CN202110696128.6

  • 申请日2021-06-18

  • 分类号C08F220/20(20060101);C08F220/60(20060101);C08F220/56(20060101);C08F220/04(20060101);C08F220/06(20060101);C08F2/44(20060101);C08K3/32(20060101);C08J9/26(20060101);B01J20/26(20060101);B01J20/30(20060101);B01D15/08(20060101);C07C51/47(20060101);C07C57/03(20060101);

  • 代理机构43114 长沙市融智专利事务所(普通合伙);

  • 代理人张伟

  • 地址 461000 河南省许昌市魏都区八一路88号

  • 入库时间 2023-06-19 12:13:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-03-31

    授权

    发明专利权授予

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