首页> 中国专利> 一种基于量子点非线性的光限幅器件及其非线性薄膜制备方法

一种基于量子点非线性的光限幅器件及其非线性薄膜制备方法

摘要

本发明公开了一种基于量子点非线性的光限幅器件,该光限幅器件由周期性的高低折射率薄膜交替组成。其中,低折射率膜为利用双源蒸发和热退火技术制备的非线性薄膜;本发明还公开了一种基于量子点非线性的光限幅器件的非线性薄膜制备方法,该方法利用两个蒸发源同时蒸镀非线性材料和常规折射率材料,通过调节两个蒸发源的蒸发速率比,控制两种材料在目标基底上沉积的含量,然后通过退火处理,使非线性材料高温成核为量子点,从而获得量子点嵌入式薄膜。

著录项

  • 公开/公告号CN113238426A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东南大学;

    申请/专利号CN202110537572.3

  • 发明设计人 张家雨;陈伟敏;项文斌;

    申请日2021-05-18

  • 分类号G02F1/35(20060101);G02F1/355(20060101);C23C14/30(20060101);C23C14/26(20060101);C23C14/58(20060101);C23C14/08(20060101);C23C14/10(20060101);C23C14/06(20060101);

  • 代理机构32249 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人孙峰

  • 地址 211189 江苏省南京市江宁区东南大学路2号

  • 入库时间 2023-06-19 12:10:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-12-09

    授权

    发明专利权授予

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号