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超硬衬底片抛光用抛光盘的制备方法及精密抛光方法

摘要

本发明涉及一种超硬衬底片抛光用抛光盘的制备方法及精密抛光方法,属于衬底加工技术。本发明提出了一种新型衬底片抛光用抛光盘制备方法,通过使用多层复合抛光盘,对衬底片进行精密抛光,与传统衬底片抛光工艺相比极大的简化了工艺流程,获得面型较好的衬底抛光片,抛光后的衬底片平均厚度差小,弯曲翘曲度低。本方法工艺简单易操作。

著录项

  • 公开/公告号CN113211337A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南通大学;

    申请/专利号CN202110538166.9

  • 发明设计人 李祥彪;仲崇贵;

    申请日2021-05-18

  • 分类号B24D18/00(20060101);B24B1/00(20060101);

  • 代理机构32249 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人任志艳

  • 地址 226019 江苏省南通市崇川区啬园路9号

  • 入库时间 2023-06-19 12:08:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-04-07

    授权

    发明专利权授予

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