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一种基于纳米结构光学异常特性的纳米光栅结构偏振器件

摘要

本发明公开了一种基于纳米结构光学异常特性的纳米光栅结构偏振器件,包括基底,基底上方设有过渡层,过渡层上方设置一维铝纳米线栅,一维铝纳米线栅包括设置在过渡层上方的铝光栅层以及通过PMMA介质层嵌入铝光栅层中的三角形铝光栅,光线从基底向光栅方向入射。通过对各参数的调试,可使其在2‑20μm红外波段获得80%左右的透过率和90dB以上的偏振消光比,且透过率随波长变化波动较小,基本保持在80%~90%之间。在偏振成像、显示、医学应用、设备的小型化与集成化、光学存储和光通信等领域具有应用潜力。

著录项

  • 公开/公告号CN113204068A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 扬州大学;

    申请/专利号CN202110504416.7

  • 发明设计人 苏涛;刘宇建;钱沁宇;王钦华;

    申请日2021-05-10

  • 分类号G02B5/30(20060101);

  • 代理机构32249 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人吴旭

  • 地址 225009 江苏省扬州市大学南路88号

  • 入库时间 2023-06-19 12:05:39

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-10

    授权

    发明专利权授予

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