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CH3结构域改造诱导形成的异源二聚体及其制备方法和应用

摘要

本发明属于抗体工程领域,提供一种了异源二聚体及其制备方法与应用。本发明通过综合考虑界面氨基酸之间的各种相互作用,例如离子作用、疏水相互作用和空间作用等,将“凸‑凹”模型和静电作用相结合,筛选到优选的CH3突变序列,其更倾向于形成异源二聚体,而不形成同源二聚体,因而大大提高了异源二聚体分子的产量。与参考文献CN106883297A和US20150307628A1相比,本发明涉及的“凸‑凹”模型构造方法更加简单、点突变更少,而且在不引入二硫键的情况下能将异源二聚体的纯度最高提高到95%以上。

著录项

  • 公开/公告号CN113121697A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 周易;

    申请/专利号CN201911410315.2

  • 发明设计人 周易;

    申请日2019-12-31

  • 分类号C07K16/46(20060101);C12N15/13(20060101);C12N15/85(20060101);

  • 代理机构44218 深圳市千纳专利代理有限公司;

  • 代理人张新蕊

  • 地址 200120 上海市浦东新区临沂路81弄51号

  • 入库时间 2023-06-19 11:54:11

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-06-09

    授权

    发明专利权授予

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