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一种铜造像表面抛光的方法

摘要

本发明公开了一种铜造像表面抛光的方法。首先将铜造像表面清洗干净,采用金属挫或电磨工具将铜茬磨平,采用双氧水浸泡1‑3h;然后将铜造像表面用清水清洗干净,浸泡入抛光液中浸泡1‑3h;最后将铜造像表面涂抹抛光膏,采用刷子反复刷洗1‑10遍,采用清水清洗干净。本发明的铜造像表面抛光的方法,采用液体抛光液浸泡后,在采用抛光膏打磨,铜造像抛光后光泽度大幅度提高,采用金刚石微粉作为打磨剂,能深入到边角缝隙等不容易打磨的地方,聚丙烯酸酯嵌段共聚物和腐蚀抑制剂的组合使用,在显著提高铜造像的光泽度的同时,提高了其耐腐蚀性能。

著录项

  • 公开/公告号CN112981410A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 湖北觉辰工艺有限公司;

    申请/专利号CN202110188648.6

  • 发明设计人 吴永振;

    申请日2021-02-19

  • 分类号C23F3/06(20060101);C09G1/12(20060101);C09G1/18(20060101);

  • 代理机构11516 北京文苑专利代理有限公司;

  • 代理人周会

  • 地址 435100 湖北省黄石市大冶市金井路金井巷45号

  • 入库时间 2023-06-19 11:30:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-04-25

    授权

    发明专利权授予

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