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用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置及方法

摘要

本发明提供了用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置及方法,装置包括装置主体、分段光照装置、叶片处理装置、光系统II处理装置和内周天线处理装置,分段光照装置包括竖直将装置主体平均分为三部分的隔板槽一、二、三,隔板槽一、二、三的夹角处分别设有可调节光源,隔板槽一、二、三连接处设有圆柱型光照控制槽,叶片处理装置包括弧形槽体一、叶片存储装置和密封遮盖,光系统II处理装置包括弧形槽体二和试管架一,内周天线处理装置包括弧形槽体三和试管架二。总之,本发明具有结构新颖、操作方便、研究效率高等优点。

著录项

  • 公开/公告号CN112964838A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 临沂大学;

    申请/专利号CN202110340477.4

  • 发明设计人 董芳;

    申请日2021-03-30

  • 分类号G01N33/00(20060101);B01L9/06(20060101);

  • 代理机构11670 北京栈桥知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人潘卫锋

  • 地址 276000 山东省临沂市兰山区工业大道北段西侧

  • 入库时间 2023-06-19 11:26:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-03-14

    授权

    发明专利权授予

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