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一种检测直拉重掺硅单晶生长纹理的方法

摘要

本发明公开了一种检测直拉重掺硅单晶生长纹理的方法。包括以下步骤:选择完整的直拉重掺硅单晶,截取单晶头部的圆锥和圆柱部分;纵向剖开取样片;在室温条件下对样片表面进行混酸腐蚀处理,然后纯水清洗至镜面效果,酸液为氢氟酸和硝酸的混合酸;对样片进行热氧化处理;使用质量百分比浓度为40%的氢氟酸对样片进行去氧化膜处理;对样片进行二次混酸腐蚀处理,然后纯水清洗至镜面效果,酸液为氢氟酸和硝酸的混合酸;对样片进行择优腐蚀处理,然后纯水洗净、氩气或N2吹扫使其表面干燥;在暗室内强光下或使用扫描仪成像观察其表面呈现的生长纹理形貌。本发明能够有效检测直拉重掺硅单晶在生长过程中纹理变化,操作简单易实现,可节约巨额设备支出。

著录项

  • 公开/公告号CN112903381A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 有研半导体材料有限公司;

    申请/专利号CN201911231999.X

  • 申请日2019-12-04

  • 分类号G01N1/28(20060101);G01N1/32(20060101);G01N1/44(20060101);G01N21/84(20060101);

  • 代理机构11100 北京北新智诚知识产权代理有限公司;

  • 代理人刘秀青

  • 地址 101300 北京市顺义区林河工业开发区双河路南侧

  • 入库时间 2023-06-19 11:16:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-08-23

    授权

    发明专利权授予

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