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公开/公告号CN112844375A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-05-28
原文格式PDF
申请/专利权人 四川大学;
申请/专利号CN202110155218.4
发明设计人 郭家秀;景悅;袁山东;楚英豪;李建军;
申请日2021-02-04
分类号B01J23/34(20060101);B01D53/86(20060101);B01D53/56(20060101);
代理机构51202 成都科海专利事务有限责任公司;
代理人吕建平
地址 610065 四川省成都市武侯区一环路南一段24号
入库时间 2023-06-19 11:09:54
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-02-28
授权
发明专利权授予
机译: 基于纳米异质半导体CdS-WO 3 Sub> -TiO 2 Sub>的光催化剂的制备方法
机译: 半导体异质结/同质结,制备方法,以及相同的光催化剂
机译: 二氧化钛与钛酸铁异质结的可见光催化剂及其制备方法
机译:Bi2S3 @ Bi2wo6 / WO3三元光催化剂的制备,具有增强的光催化性能:Z形方案的协同效应/传统异质结和氧气空缺
机译:直接Z方案异质结的WO_3 / Bi_2WO_6光催化剂的多面设计表面和界面设计,可有效去除水杨酸
机译:Bi_(12)O_(15)Cl_6 / Bi_2WO_6 Z方案异质结光催化剂对四环素降解的可见光驱动光催化活性增强
机译:球铣法制备的异质结光催化剂NB_2WO_8 / ZnO的研究
机译:制备的Bi2O3 / TiO2异质结纳米复合材料用于降解反渗透浓缩液。
机译:原位水热合成可见光光催化活性增强的Bi-Bi2O2CO3异质结光催化剂
机译:Bi2WO6 / AG2S / ZnS Z方案异质结光催化剂,具有增强的可见光光接触,朝向多种染料污染物的降解
机译:异质结(磷化镓硅异质结的生长)研究。第一部分