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一种采用无掩模定域性电沉积方法制备微柱状结构的工艺

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一种采用无掩模定域性电沉积方法制备微柱状结构的工艺，属于增材制造领域。本发明解决技术问题首先配置电镀液和制备阴阳极，然后设置沉积工艺参数，最后对沉积物进行检测。本发明中无掩膜定域性电沉积工艺方法无需昂贵设备，工艺过程简单，生产成本低，生产效率高，适用于多种导电金属及合金，具有良好的工业应用前景。

著录项

公开/公告号CN112831810A

专利类型发明专利
公开/公告日2021-05-25

原文格式PDF
申请/专利权人大连大学;
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申请/专利号CN202011632804.5
发明设计人佐姗姗;吴蒙华;贾卫平;苏晓冰;钱宁开;
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申请日2020-12-31
分类号C25D5/02(20060101);C25D17/12(20060101);C25D5/18(20060101);C25D21/18(20060101);C25D3/18(20060101);B33Y10/00(20150101);B33Y80/00(20150101);
代理机构21235 大连智高专利事务所(特殊普通合伙);
代理人胡景波
地址 116622 辽宁省大连市经济技术开发区学府大街10号
入库时间 2023-06-19 11:05:16

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法律状态公告日

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2023-05-30

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