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一种基于液晶底片的四步相移正弦条纹场投射模块

摘要

本发明属于3D测量技术领域,提供一种基于液晶底片的四步相移正弦条纹投影模块,特别适合用于微型化3D测量设备中;本发明采用液晶底片,仅包含两个COM电极和两个SEG电极,通过对电极施加驱动电压显示类正弦二进制填充图案,再通过投影成像镜头和扩展镜头,投射出正弦条纹;选择不同的加电组合方式,液晶底片可以分别显示四幅满足四步相移关系的类正弦二进制填充图案,从而通过分时控制投影出满足四步相移的四幅正弦条纹场。本发明结构控制简单,尺寸小巧,特别适合要求整机体积微型化的3D测量设备;同时,基于简单的结构和控制以及低成本的元器件,本发明投影模块比较容易低成本化。

著录项

  • 公开/公告号CN112764277A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-05-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN202011576045.5

  • 申请日2020-12-28

  • 分类号G02F1/1343(20060101);G02F1/133(20060101);G01B11/25(20060101);

  • 代理机构51203 电子科技大学专利中心;

  • 代理人甘茂

  • 地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号

  • 入库时间 2023-06-19 10:54:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-15

    授权

    发明专利权授予

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