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调制掺杂半导体激光器及其制造方法

摘要

一种调制掺杂半导体激光器包括:多量子阱,其由包括交替地堆叠的多个第一层和多个第二层的多个层构成,并且包括受体和供体;p型半导体层,其与多个层中的最上层接触;以及n型半导体层,其与多个层中的最下层接触,所述多个第一层包括所述受体,使得p型载流子浓度为p型半导体层的10%以上且150%以下,所述多个第二层包含所述受体,使得p型载流子浓度为p型半导体层的10%以上且150%以下,所述多个第二层包含供体,并且对应于p型载流子浓度与n型载流子浓度之差的有效载流子浓度为多个第二层的p型载流子浓度的10%以下。

著录项

  • 公开/公告号CN112398003A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-02-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 朗美通日本株式会社;

    申请/专利号CN202010618554.3

  • 发明设计人 中岛崇之;中村厚;关野裕司;

    申请日2020-06-30

  • 分类号H01S5/34(20060101);H01S5/343(20060101);H01S5/32(20060101);H01S5/323(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人葛飞

  • 地址 日本神奈川县

  • 入库时间 2023-06-19 09:57:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-09-02

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01S 5/34 专利申请号:2020106185543 申请日:20200630

    实质审查的生效

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