保持器、包括至少两个保持器的承载体、装置和方法

摘要

提供了一种保持器(120)，所述保持器(120)被构造成附接到用于保持基板(101)的承载体的承载体主体(160)。所述保持器(120)包括固定部分(122)，所述固定部分被构造成附接到承载体主体(160)；和浮动部分(123)，所述浮动部分被构造成可相对于所述固定部分(122)沿着一方向移动，并且包括凹槽(126)，所述凹槽被构造成接收所述基板(101)的至少一部分。

说明书

技术领域

本公开内容的实施方式涉及保持器，所述保持器被构造成附接到用于保持基板的承载体的承载体主体；包括至少两个保持器的两种承载体；和加工保持在承载体中的基板的两种方法，特别是用于基板加工，例如用于层沉积的方法；和从承载体中卸载基板的两种方法；和用于在大面积玻璃基板上沉积层的两种设备。本公开内容的实施方式特别地涉及用于在基板加工机器中支撑具有薄厚度的大面积基板的保持器和承载体，以及用于处理大面积基板的设备。

背景技术

已知有几种用于在基板上沉积材料的方法。例如，可以通过物理气相沉积(physical vapor deposition,PVD)工艺、化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)工艺、等离子体增强化学气相沉积(plasma enhanced chemical vapor deposition,PECVD)工艺等来涂覆基板。通常，在要涂覆的基板所位于的处理设备或处理腔室中执行所述过程。在所述设备中提供沉积材料。多种材料，还包括其氧化物、氮化物或碳化物，可用于沉积在基板上。此外，可以在处理腔室中进行如蚀刻、结构化、退火或类似工艺的其他处理动作。

经涂覆的材料可用于多种应用和多种技术领域中。例如，应用属于微电子学领域，诸如产生半导体器件。而且，用于显示器的基板通常通过PVD工艺涂覆。进一步的应用包括绝缘面板、有机发光二极管(organic light emitting diode,OEED)面板、带有TFT的基板、滤色器或类似装置。

特别是对于诸如显示器生产、薄膜太阳能电池制造和类似应用的领域，对大面积玻璃基板进行加工。在过去，基板大小一直持续增加，并且仍在继续增加中。玻璃基板的不断增大的大小使在不因玻璃破裂而牺牲生产量的情况下玻璃基板的处理、支撑和加工越来越具有挑战性。

通常，玻璃基板可以在其加工期间支撑在承载体上。承载体驱动玻璃或基板穿过加工机器。承载体通常形成框架或板，所述框架或板沿着基板的外围支撑基板的表面，或者在后一种情况下，原样支撑所述表面。具体地，也可以使用框架形的承载体来遮蔽玻璃基板，其中承载体中的被框架围绕的孔口提供了用于涂覆待沉积的材料在暴露的基板部分上的孔口或用于作用于由孔口暴露的基板部分上的其他处理动作的孔口。

更大且更薄的基板的趋势可导致基板隆起，特别是由于在层沉积期间施加至基板的应力，其中隆起可继而由于破裂可能性增加而造成问题。此外，隆起可降低所沉积的材料层的质量，例如均匀性。因此，需要减少隆起并且使承载体能够运输更大和更薄的基板而不使所述基板断裂，并且需要改善经涂覆的材料层的质量。

鉴于上述，提供了一种承载体，特别是具有至少两个保持器的承载体，所述承载体克服了本领域中的问题中的至少一些问题，并且有利地提供了一种用于承载体的保持器。

发明内容

鉴于上述，提供了根据独立权利要求1所述的保持器，所述保持器被构造成附接到承载体的承载体主体。根据另一个实施方式，提供了根据权利要求8所述的承载体。根据另一个实施方式，提供了根据独立权利要求11所述的加工保持在承载体中的基板的方法。根据另一个实施方式，提供了根据独立权利要求12所述的从承载体卸载基板的方法。根据另一个实施方式，提供了根据权利要求15所述的用于在大面积玻璃基板上沉积层的设备。根据从属权利要求、说明书和附图，其他方面、优点和特征是显而易见的。

根据一个方面，提供了一种保持器，所述保持器被构造成附接到用于保持基板的承载体的承载体主体。所述保持器包括固定部分，所述固定部分被构造成附接到承载体主体；和浮动部分，所述浮动部分被构造成可相对于所述固定部分沿着一个方向移动，并且包括凹槽，所述凹槽被构造成接收所述基板的至少一部分。

根据一个方面，提供了一种包括至少两个保持器的承载体。所述至少两个保持器中的每个保持器包括：固定部分，所述固定部分被构造成附接到承载体主体；和浮动部分，所述浮动部分被构造成可相对于所述固定部分沿着一个方向移动，并且包括凹槽，所述凹槽被构造成接收所述基板的至少一部分。

根据一个方面，提供了一种加工被保持在具有承载体主体的承载体中的基板的方法，至少一个保持器附接到所述承载体的承载体主体。所述方法包括：将基板装载到承载体上；在高温下加工基板；和通过由于在高温下加工导致的热膨胀来移动至少一个保持器的浮动部分。

根据一个方面，提供了一种从具有承载体主体的承载体上卸载基板的方法，至少一个保持器附接到所述承载体的承载体主体。所述方法包括将承载体从实质上竖直的取向移动到实质上水平的取向；从承载体上卸载基板，和将至少一个保持器的浮动部分移动到中心位置。

根据一个方面，提供了一种用于在大面积玻璃基板上沉积层的设备。所述设备包括真空腔室，所述真空腔室适用于在其中沉积层；传送系统，所述传送系统适用于传送承载体。所述承载体包括至少两个保持器。所述至少两个保持器中的每个保持器包括：固定部分，所述固定部分被构造成附接到承载体主体；和浮动部分，所述浮动部分被构造成可相对于所述固定部分沿着一个方向移动；并且包括凹槽，所述凹槽被构造成接收所述基板的至少一部分。该设备还包括用于沉积形成所述层的材料的沉积源。

附图说明

以上简要概述本公开内容的上述详述特征可以被详细理解的方式、以及对本公开内容的更特定描述，可通过参照实施方式来获得。附图涉及本公开内容的实施方式，并且在下文中描述：

图1A、图1B、图1C和图1D示出了根据本文所述的实施方式的承载体，每个承载体具有保持器，并且每个承载体具有设置在承载体的基板区域中的基板；

图2A至图2E示出了根据本文所述的实施方式可附接到承载体的保持器的示例；

图3示出了根据本文所述的实施方式用于利用承载体在基板上沉积材料层的设备的视图；

图4示出了根据本文所述的实施方式的处理保持在承载体中的基板的方法的流程图；并且

图5示出了根据本文所述的实施方式的从承载体中卸载基板的方法的流程图。

具体实施方式

现在将详细参考本公开内容的各种实施方式，所述实施方式的一个或多个示例在附图中示出。在以下附图描述中，相同的附图标号表示相同的部件。描述了关于各个实施方式的差异。各个示例通过对本公开内容的解释来提供，并且不意味着对本公开内容的限制。此外，被示出或描述为一个实施方式的一部分的特征可以在其他实施方式上使用或与其他实施方式结合使用，以产生另一实施方式。本说明书旨在包括此类修改和变型。

根据本文所述的实施方式，可提供包括至少两个保持器的承载体。所述至少两个保持器可被配置以减少由应力所导致的基板的弯曲或隆起，特别是由在基板上沉积层而引入的应力、或由基板或承载体的热膨胀而引入的应力、或由基板的重量引入的应力所导致的基板的弯曲或隆起。保持器可提供具有固定部分和可移动部分或浮动部分的两部分式主体。

此外，在下面的描述中，可以将承载体或基板承载体理解为能够支撑基板的承载体。特别地，本文所提及的承载体可以理解为具有框架形状或包括框架的承载体。在一些示例中，承载体也可以被称为承载体框架。根据一些示例，基板承载体可包括用于保持基板的固定元件。本文所提及的固定元件可理解为用于提供与基板的接触的固定元件。特别地，本文所提及的固定元件可理解为用于提供与基板的多于一个表面的接触的固定元件。在一些示例中，基板承载体适用于移动通过处理腔室或处理设备，诸如通过包括允许基板承载体传送通过处理腔室的移动装置、用于在处理腔室中将基板承载体连接到传送系统的连接装置、滑动表面、滚轮或类似装置，所述移动装置诸如导轨。

根据本文所述的实施方式，承载体可包括至少两个保持器。所述至少两个保持器可围绕基板的周边分布，以有效地避免或减少所述基板的弯曲或隆起。每个保持器可包括固定部分，所述固定部分可被构造成附接到承载体主体，所述固定部分具体地具有相对于所述承载体主体的固定位置；和浮动部分，所述浮动部分可相对于所述固定部分沿着至少一个方向移动。所述浮动部分可包括凹槽，所述凹槽被构造成接收基板的至少一部分。所述浮动部分相对于固定部分的相对运动可提供一个被考虑用于减少基板的弯曲的方面。此外，可提供力布置，例如至少一个弹簧或至少一个气缸，或类似布置，并且所述力布置可被构造成沿着至少一个方向在承载体中拉动或推动基板。所述基板可在加工期间经历热膨胀。可以通过由热膨胀产生的长度增加来移动所述浮动部分。因此，可以减小基板中的应力。

根据可与本文所述的其他实施方式组合的实施方式，基板厚度可为0.1mm至1.8mm，并且保持器可适用于此类基板厚度。可为特别有利的是如果基板厚度为约0.9mm或更低，诸如0.7mm、0.5mm或0.3mm，并且保持器适用于此类基板厚度。

根据一些实施方式，大面积基板的大小可为至少0.174m

图1A示出了承载体100。承载体100可被构造用于支撑大面积薄基板101。如图1A所示，基板101可以设置在承载体100内的某个位置中，特别是当在处理腔室中进行处理时。承载体100可包括限定窗口或孔口的框架或承载体主体160。根据实现方式，框架可提供基板接收表面。具体地，基板接收表面可被构造成在操作期间与基板的周边部分接触，即，当装载基板时与之接触。

基板101可由适用于于材料沉积的任何材料制成。例如，基板可以由选自由以下项组成的组的材料制成：玻璃(例如，钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃等)、金属、聚合物、陶瓷、复合材料，或可通过沉积工艺进行涂覆的任何其他材料或材料组合。可能也影响基板处理的隆起可通过根据本文所述的实施方式的承载体来减少。特别是对于玻璃基板或陶瓷基板，破裂是另一问题，承载体还可显著减少基板破裂，基板破由于增加的损失而降低了生产过程的生产率。

根据一些实施方式，框架160可以由铝、铝合金、钛、它们的合金、不锈钢或类似材料制成。对于相对小的大面积基板，例如GEN 5或更低代，框架160可以由单件制造，即，框架可整体地形成。此外，根据可以与本文描述的其他实施方式组合的一些实施方式，框架160可包括两个或更多个元件，例如顶杆、侧杆和/或底杆。特别地对于非常大面积的基板，承载体或承载体主体可被制造为具有多个部分。承载体主体的这些部分可经组装以提供用于支撑基板101的框架160。框架160可特别地被构造用于将基板101接收在基板区域中。

图1A所示的承载体100可进一步包括保持器。在图1A所示的示例中，在框架或承载体主体160的底侧处设有两个保持器120。根据一些实施方式，在框架160的底侧处的所述两个保持器120的浮动部分可在一个方向上相对于所述固定位置移动，其中所述方向可平行于基板的边缘，如箭头所示。根据一些实施方式，两个保持器也可以设置在承载体的左侧和右侧的中间。根据一些实施方式，浮动部分123相对于固定部分122的移动方向也可以替代地或另外垂直于基板的边缘和/或在基本上平行于基板101的平面中。

例如，可在底侧的左侧处设置一个保持器120，并且可在底侧的右侧处设置一个保持器120。此外，尽管在图1A中示出了在框架160的底侧处的两个保持器120，但是本申请不限于此。可以在框架160的底侧处设置多于两个保持器120。此外，如关于图1B所更详细描述的，可以在基板101的一个或多个侧面上提供多于一个保持器120。此外，除了所述至少两个保持器之外，还可以提供其他保持布置，例如在至少两个保持器120之间提供其他保持布置。

图1A所示的承载体100提供了所述两个保持器的浮动部分，所述浮动部分可沿着所述第一方向移动。基板的膨胀或其他运动可以通过具有浮动部分的保持器中的一个或多个保持器来补偿，所述浮动部分可相对于固定部分移动，例如在实质上平行于承载体和/或基板的表面的平面中相对于固定部分移动。基板101在由框架160限定的基板区域内的位置可以被精确地调节和居中。此外，浮动部分可遵循由于基板热膨胀导致的尺寸变化。因此，可以减少基板的应力或基板相对于保持器的移动。根据本文所述的实施方式的保持器使基板能够在相应的侧面处膨胀和/或膨胀至底部。根据可以与本文所述的其他实施方式组合的一些实施方式，本文所述的承载体和利用本文所述的承载体的设备是用于竖直基板处理的。根据可以与本文所述的实施方式组合的实施方式，所述保持器120可被构造成以实质上竖直的取向附接到基板。

术语“竖直方向”或“竖直取向”可理解为与“水平方向”或“水平取向”区分开。也就是说，“竖直方向”或“竖直取向”可涉及实质上竖直的取向，例如承载体和基板的实质上竖直的取向，其中从精确的竖直方向或竖直取向偏离几度(例如高达+/-10°或甚至高达+/-15°)仍可被视为“实质上竖直的方向”或“实质上竖直的取向”。竖直方向可实质上平行于重力。

根据可以与本文所述的其他实施方式组合的实施方式，特别是当提及基板取向时，实质上竖直地可以理解为允许从竖直方向偏离+/-20°或更低，例如+/-10°或更低。例如，可以提供这种偏离，因为具有从竖直取向的某种偏离的基板支撑件可导致更稳定的基板定位。然而，在材料的沉积、具体是金属和/或氧化物的沉积期间的基板取向可以被认为是实质上竖直的，所述实质上竖直的可以被认为与水平基板取向不同。

术语“实质上垂直的”可涉及例如旋转轴和支撑表面或基板表面的实质上垂直的取向，其中从精确的垂直取向偏离几度、例如高达+/-10°或甚至高达+/-15°，仍可被视为“实质上垂直的”。

根据本文所述的实施方式，并且如关于图2A至图2C更详细描述的，保持器可以允许在至少一个方向上相对运动以减小基板在其周边区域中的弯曲。另外，保持器可提供用于将基板稳定地支撑在承载体中的保持力或支撑力。保持器的相对运动可以通过浮动部分相对于固定部分的相对运动来提供。当实践实施方式时，可以提供关于基板的弯曲或隆起的有益应力减小。

图1B示出了根据一些实施方式的承载体100的另一示例。图1B中所示的实施方式类似于图1A所示的实施方式。图1B的承载体100可包括两个保持器120，其中每个保持器可定位在承载体或承载体主体的底侧的拐角处。或者，两个保持器或附加保持器也可设置在承载体或承载体主体的每一侧的中间。另外地或可替代地，可以仅在承载体或承载体主体的特定侧面处设置保持器，诸如在其底侧和/或左侧处设置保持器。

图1B示出了另外的保持布置140、145、170。保持布置140、145、170可以类似于保持器120，但是可不包括浮动部分123。例如，保持布置140可以设置在承载体或承载体主体的右侧上。保持布置140可以在垂直于承载体或承载体主体的右侧的方向上移动。也就是说，保持布置140可移动远离承载体或承载体主体的右侧和/或移动至承载体或承载体主体的右侧。另外地或可替代地，可以在承载体或承载体主体的左侧上提供保持布置145。保持布置145可以相对于承载体或承载体主体的左侧固定。另外地或可替代地，保持布置170可以设置在承载体或承载体主体的顶侧或上部处。保持布置170可以在垂直于承载体或承载体主体的顶侧的方向上移动。也就是说，保持布置140可移动远离承载体或承载体主体的顶侧和/或移动至承载体或承载体主体的顶侧。

根据可与本文所述的其他实施方式组合的实施方式，在框架160的至少两个侧面(诸如，底侧和左侧)上，并且任选地甚至在框架160的每一侧上设置至少一个保持器。此外，保持布置140、145、170可在框架的至少一侧上。

根据可另外或可替代地实现的另外实施方式，保持器可固定到基板的位置围绕基板的周边分布，例如均匀地分布在一个或多个侧面处。例如，可以在基板的一个或多个侧面处围绕基板的边缘每200mm至每1000mm，诸如每300mm至800mm设置保持器。此外，保持器也可以设置在成对位置中。

图1C示出了承载体100的另一示例。根据可与本文所述的其他实施方式组合的实施方式，承载体100可包括用于将基板101保持在基板区域中的第一保持布置151和/或第二保持布置152。第一保持布置151可以固定地附接到框架160。可替代地，第一保持布置151可以是可移动的。可以设置一个或多个第一保持布置151。第二保持布置152可为可移动的。具体地，第一保持布置151和/或第二保持布置152可以垂直于基板101的相应边缘移动，如由箭头所示。根据可以与本文所述的实施方式组合的实施方式，至少一个保持布置，诸如第一保持布置151和/或第二保持布置152，可以连接到承载体主体160的一侧。所述至少一个保持布置可以在实质上垂直于所述保持布置所连接到的承载体主体的侧面的纵向延伸的方向上移动。

例如，第一保持布置151和第二保持布置152可包括夹具或导向元件。根据一些实施方式，如图1C中示例性示出的保持布置151、152，例如在侧面或顶部处，可以被设计成使得定位元件可有助于补偿由基板的弯曲或隆起引起的力。此外，定位元件可适用于避免基板101的自由移动，和/或被提供以将基板重量的超过50％保持在框架160的基板接收表面中和/或补偿热膨胀。例如，第一保持布置151和第二保持布置152可相对于承载体或承载体主体移动，例如沿着至少一个方向、具体地两个方向移动。在本申请的上下文中，诸如保持器的浮动部分和/或定位元件可沿着至少一个方向移动可被理解为沿着一个方向的双向移动，例如是从左到右的双向移动，反之亦然。

承载体100还包括至少两个保持器120，例如在框架160的底侧上。在图1C中示出了两个用于减少基板弯曲的保持器120。保持器和对应的固定位置的数量可以根据本文所述的实施方式进行调整。根据实施方式，可以设置两个或更多个保持器120。

图1D示出了另一个承载体100。承载体100可被构造用于支撑大面积基板。图1D的承载体可包括第一保持布置151，所述第一保持布置用于将基板101保持在基板区域中和/或可被配置以提供预定的基板位置。第一保持布置151可以可移动地附接到框架160。根据可以与本文所述的其他实施方式结合的一些实施方式，提供了一个或多个第一保持布置151。根据可以与本文所述的其他实施方式结合的一些实施方式，可提供三个第一保持布置151。例如，可以在框架的顶部部分处设置两个第一保持布置，和/或可以在框架的一个侧面部分处设置一个第一保持布置151。第一保持布置可具有用于基板插入的间隙或用于将基板布置在第一保持布置上的其他元件。接触位置可限定承载体中的预定基板位置。第一保持布置151可为可移动的。具体地，第一保持布置151可以垂直于基板101的相应边缘移动，如由箭头所示。另外地或可替代地，可以在承载体或承载体主体的左侧上提供第二保持布置145。保持布置145可以相对于承载体或承载体主体的左侧固定。

根据本文所述的实施方式，保持布置140、145、151、152、170可防止基板101从框架160中掉出和/或可在基板和/或承载体的热膨胀期间追随基板边缘。

图1D所示的承载体100还可包括保持器120，所述保持器的各部分相对于承载体框架或承载体主体的周边是可移动的，即，平行于接收在承载体中的基板的表面是可移动的。关于图2A至图2C更详细地描述了这些保持器。根据可与本文所述的其他实施方式组合的实施方式，保持器可以沿着框架160的侧面，具体是在框架160的底侧处设置和/或分布。

如图2A、图2B和图2C中所示，根据本文所述的实施方式，保持器120可包括固定部分122和/或浮动部分123。固定部分可具有相对于承载体主体160的固定位置。浮动部分123可沿着一个方向相对于固定部分122移动。浮动部分123可具有用于接触基板101的第一表面102的实质上平坦的或平坦的第一表面。

根据可与本文所述的其他实施方式组合的实施方式，浮动部分123可包括倾动构件127，所述倾动构件被构造成使基板101倾斜，具体是使基板的边缘104倾斜。特别地，倾动构件127可被构造成相对于固定部分倾斜和/或被构造用于支撑基板101的主表面，例如第一表面102。例如，倾动构件127可布置在浮置部分123的第一表面上以接触基板101，具体是基板101的第一表面102。例如，倾动构件127可以是滚珠轴承或任何其他种类的合适轴承。在实践实施方式时，可以补偿基板的倾斜和/或基板和/或承载体的几何公差。

根据可与本文所述的其他实施方式组合的实施方式，浮动部分123可以沿着从第一末端位置到第二末端位置的方向移动。另外地或可替代地，浮动部分123还可包括力布置130。力布置130可被构造成在至少一个方向上使浮动部分123相对于固定部分122居中。

可以根据基板的类型(材料、厚度、面积大小等)、要沉积在基板101上的层数、要沉积的一种或多种材料的种类，要沉积的一个或多个层的厚度、处理腔室的种类、处理时间等来不同地选择力布置130。根据本文所述的实施方式，力布置130可选自由以下项组成的组：至少一个弹簧或至少一个气缸。

此外，浮动部分123可包括凹槽126。凹槽126可被构造成接收基板101的至少一部分。具体地，凹槽126可被构造成接触基板101的第一表面102、所述基板101的与第一表面102相对的第二表面103和/或所述基板101的从所述第一表面102跨越到所述第二表面103的边缘104。

如图2D所示，凹槽126可包括第一表面126a和/或第二表面126b。当将基板101装载到凹槽126中时，凹槽126的第一表面126a可面向基板101的第一表面102，和/或凹槽126的第二表面126b可面向基板101的第二表面103。也就是说，凹槽126的第一表面126a可被构造成面向基板101的第一表面102，和/或凹槽126的第二表面126b可被构造成面向基板101的第二表面103。此外，凹槽126可具有从凹槽126的第一表面126a延伸到凹槽126的第二表面126b的第三表面126c。当基板101被装载到凹槽126中时，凹槽126的第三表面126c可面向基板101的边缘104。也就是说，凹槽126的第三表面126c可被构造成面向基板101的边缘104。根据一些实施方式，凹槽126的第一表面和第二表面可基本上彼此平行。

在操作期间，即，当基板由承载体承载时，基板101可布置在凹槽126的第一表面126a与第二表面126b之间。在操作期间，基板101可不接触凹槽126的第一表面126a和/或第二表面126b。基板101的边缘104、例如是基板101的横向侧，可接触凹槽126，具体是凹槽126的第三表面126c。

特别地，在基板101的竖直传送期间，基板101可以竖立在保持器120上，具体地在凹槽126中，更具体地在凹槽126的第三表面126c上。在处理期间，基板101可被加热，从而导致热膨胀。取决于基板101与保持器120之间的摩擦，基板101可在保持器120上方滑动，或者保持器120的浮动部分123可以随着基板101一起滑动。当基板101被卸载时，力布置130可使浮动部分123返回到浮动部分123的初始位置。在实践实施方式时，可防止基板的破裂或劣化。

根据可与本文所述的其他实施方式组合的实施方式，浮动部分123的移动方向可平行于所述第一方向。根据可与本文所述的其他实施方式组合的实施方式，浮动部分123的移动方向可以在实质上平行于基板，特别是实质上平行于基板101的第一表面102和/或第二表面103的平面内。

虽然如例如在图2A至图2C中所示，保持器120包括浮动部分，所述浮动部分可相对于固定部分沿着一个方向移动，但是本申请不限于此。保持器120还可包括浮动部分，所述浮动部分可相对于固定部分沿着至少两个方向移动。

图2E示出框架160在底侧处配备有两个保持器120。图2E所示的承载体还包括在右侧上的保持布置140、在左侧上的保持布置145，和/或在上侧上的保持布置170。图2E还示出了上部导向元件162和/或下部导向元件164。上部导向元件162和/或下部导向元件164可被构造用于导向框架160。例如，上部导向元件162可为磁性导向元件，和/或下部导向元件164可为机械导向元件，诸如杆。

保持布置140可被构造用于打开装载孔口。也就是说，保持布置140可相对于框架160的右侧移动。此外，保持布置140可被构造用于补偿基板101和/或承载体的热膨胀。此外，保持布置140、145、170可以与在此描述的相应保持布置140、145、170相同或相似。

图3示出了根据实施方式的沉积腔室600的示意图。沉积腔室600适用于沉积工艺，诸如PVD或CVD工艺。基板101被示出为位于基板传送装置620上的承载体内或承载体处。沉积材料源630可在腔室612中设置为面向基板的要涂覆的一侧。沉积材料源630可提供要沉积在基板上的沉积材料635。

在图3中，材料源630可以是其上具有沉积材料的靶，或者是任何其他允许释放材料以沉积在基板101上的布置。通常，材料源630可为可旋转靶。根据一些实施方式，材料源630可以是可移动的，以便定位和/或替换所述源。根据其他实施方式，材料源可为平面靶。

根据实施方式，可以根据沉积工艺和经涂覆的基板的随后施加来选择沉积材料635。例如，源的沉积材料可以是选自由以下项组成的组的材料：金属、硅、铟锡氧化物和其他透明导电氧化物，所述金属诸如铝、钼、钛、铜和类似材料。通常，可包含此类材料的氧化物、氮化物或碳化物层可以通过如下方式沉积：提供来自源的材料或通过反应性沉积，即来自源的材料与来自处理气体的元素如氧、氮、或碳反应。

通常，基板101可设置在承载体100内或承载体100处，所述承载体也可以充当边缘排斥掩模，特别是用于非静止沉积工艺。虚线665示例性地示出了在腔室600的操作期间沉积材料635的路径。根据可与本文所述的其他实施方式组合的其他实施方式，可以通过设置在腔室612中的单独的边缘排斥掩模来提供遮蔽。根据本文所述的实施方式的承载体对于静止工艺以及对于非静止工艺都是有益的。

根据可与本文所述的其他实施方式组合的实施方式，固定组件可以牢固地保持基板的边缘，特别是在沉积过程期间。实施方式可以提供基板破损减少，特别是鉴于事实上基板的长度和高度正变得越来越大，基板的厚度可减小。可能也影响基板处理的隆起可通过根据本文所述的实施方式的承载体来减少。

图4示出了根据本文所述的实施方式用于处理保持在承载体中的基板的方法的流程图。

可以使用本文所述的保持器120来进行处理保持在承载体中的基板101的方法200。在方框210中，可以将基板101装载在承载体上或承载体中。在装载期间，基板101可以在水平方向上。然后可以将基板101旋转到竖直或实质上竖直的取向，以进行传送和/或处理。在方框220中，可以在升高的温度下处理基板101。温度可由于多种原因而升高，诸如由于在处理之前的加热过程和/或在过程期间(例如在溅射期间)的过程能量。升高的温度可理解为高于环境温度的温度。温度升高可由于热膨胀而导致基板伸长。在方框230中，可通过由在高温下进行处理而导致的热膨胀来移动至少一个保持器120的浮动部分123。

图5示出了根据本文所述的实施方式用于从承载体中卸载基板的方法的流程图。

可以使用本文所述的保持器120来进行从承载体上卸载基板101的方法300。此外，可以在方法200之后执行方法300。在方框310中，可以将承载体从实质上竖直的取向移动到实质上水平的取向。在方框320中，可以从承载体上卸载基板101。在方框330中，可以将至少一个保持器120的浮动部分123移动到中心位置。例如，可以在高温下进行处理期间将浮动部分123移出中心位置，并且可能尚未返回到所述中心位置。因此，在从保持器120卸载基板101之后，浮动部分123可返回到中心位置。根据可以与本文所述的其他实施方式组合的实施方式，力布置130可以将至少一个保持器拉或推到中心位置。

任选地，卸载基板101可包括将至少一个保持布置移动离开基板101，而基板101则保持装载在至少一个保持器120中。例如，保持器120可布置在承载体的底侧处。保持布置，诸如第一保持布置151和第二保持布置152，可布置在承载体的顶侧和另一横向侧处，例如右侧。为了卸载基板101，可以首先将保持布置移动离开基板101，然后可以将基板101移动离开保持器120。为了将基板101装载到承载体中，该操作可以逆反。

虽然前述内容是针对本公开内容的实施方式，但是可以在不脱离本公开内容的基本范围的情况下设计出本公开内容的其他和进一步的实施方式，并且本公开内容的所述范围由随后的权利要求来确定。