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一种旱地马铃薯全膜覆盖垄上微沟种植方法

摘要

本发明公开了一种旱地马铃薯全膜覆盖垄上微沟种植方法,涉及旱地马铃薯种植技术领域,用以解决目前旱作区马铃薯种植存在的种植地前期准备欠缺、限制马铃薯生长的现象,导致的马铃薯产量低下、品质较差的技术问题,本发明一种旱地马铃薯全膜覆盖垄上微沟种植方法包括种植地准备、种植地施肥、起垄、覆膜、种子准备、播种和收获。本发明在马铃薯种植过程中,在起好的大垄顶部表面开设10cm~15cm的小沟,不同于普通的全膜覆盖垄沟种植,10cm~15cm的小沟可以有效防止大垄顶部的雨水流失,增加雨水入渗率,同时在天气干旱的时候,减少大垄水分的蒸发流失,适于保持水分,且可以降低病害,促进马铃薯生产。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-01-20

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):A01G13/02 专利申请号:202011165270X 申请公布日:20201229

    发明专利申请公布后的驳回

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