在低发射率薄膜涂层中包括经超快激光处理的含银层的涂覆制品和/或其制备方法

摘要

某些示例性实施方案涉及含银(低发射率)低E涂层的超快激光处理、包括此类涂层的涂覆制品和/或相关方法。在基底(例如，硼硅酸盐或钠钙玻璃)上形成所述低E涂层，其中所述低E涂层包括至少一个溅射沉积的银基层，并且其中每个所述银基层夹置在一个或多个电介质层之间。使低E涂层暴露于激光脉冲，所述激光脉冲具有不超过10‑12秒的持续时间、355nm‑500nm的波长和超过30kW/cm2的能量密度。进行该暴露以便避免使低E涂层的温度升高至超过300℃，同时还降低(a)相对于每个所述银基层的晶界和每个所述银基层中的空位，(b)每个所述银基层的折射率，以及(c)低E涂层与其沉积态形式相比的发射率。