首页> 中国专利> 场效应晶体管及其制备方法、静态随机存储器、集成电路

场效应晶体管及其制备方法、静态随机存储器、集成电路

摘要

本申请实施例提供了一种场效应晶体管及其制备方法、静态随机存储器、集成电路,涉及电学技术领域,可以解决漏电问题。该场效应晶体管包括半导体衬底、设置于所述半导体衬底上的掺杂层、有源层、以及绝缘层;所述掺杂层包括位于源区的第一掺杂部和位于漏区的第二掺杂部,所述第一掺杂部与所述第二掺杂部分设于所述有源层两侧、且与所述有源层直接接触;所述绝缘层设置于所述掺杂层的底面与所述半导体衬底之间。

著录项

  • 公开/公告号CN112038405A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-12-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳市紫光同创电子有限公司;

    申请/专利号CN202010838970.4

  • 发明设计人 翟永成;

    申请日2020-08-19

  • 分类号H01L29/78(20060101);H01L21/336(20060101);H01L27/11(20060101);

  • 代理机构44351 深圳市智圈知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人周献

  • 地址 518000 广东省深圳市南山区粤海街道高新区社区高新南一道015号国微研发大楼401

  • 入库时间 2023-06-19 09:06:00

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号